成像光学系统与包含此类型成像光学系统之用于微影的投影曝光装置;IMAGING OPTICAL SYSTEM AND PROJECTION EXPOSURE INSTALLATION FOR MICROLITHOGRAPHY WITH AN IMAGING OPTICAL SYSTEM OF THIS TYPE

摘要

成像光学系统(7)具有复数镜(M1至M6)，其将在物件平面(5)之物场(4)成像到在影像平面(9)之影像场(8)。成像光学系统(7)具有瞳遮蔽。在物场(4)与影像场(8)间之成像光(3)的光束路径中的最后一个镜(M6)，具有让成像光(3)通过的通孔(18)。成像光学系统(7)在物场(4)与影像场(8)间之成像光(3)的光束路径中的倒数第二个镜(M5)，不具有让成像光(3)通过的通孔。结果得到的成像光学系统，可用于达到可处理的小成像误差组合、可管理的生产、以及成像光良好产能。