抗蚀剂图案形成方法以及使用该抗蚀剂图案的图案化基板的制造方法

主权项

一种抗蚀剂图案形成方法，包括：使用表面上具有精细的凹凸图案之模具，而将所述凹凸图案按压在基板上之抗蚀剂膜上；分离所述模具与所述抗蚀剂膜，而将所述凹凸图案转移至所述抗蚀剂膜上；以及藉由反应性离子蚀刻法执行残余膜蚀刻步骤，以蚀刻所述抗蚀剂膜而移除其上已转移有所述凹凸图案之所述抗蚀剂膜的残余膜；该方法之特征为：所述残余膜蚀刻步骤包含：第一蚀刻步骤，其使用包含在蚀刻期间产生沈降物之沈降气体的第一蚀刻气体，以在蚀刻所述残余膜时所述沈降物沈积于抗蚀剂图案之凸部之侧壁上的条件下蚀刻所述抗蚀剂膜，所述抗蚀剂图案为所述凹凸图案之转移图案；及所述第一蚀刻步骤后之步骤，其蚀刻所述抗蚀剂膜，使得包含所述沈降物之所述凸部的宽度变成大于或等于所述残余膜蚀刻步骤前所述凸部之宽度的目标宽度。