电浆ＣＶＤ装置

主权项

一种电浆CVD装置，其特征为具备：真空腔室；一对之成膜滚轮，其系配置于该真空腔室内，且卷绕着成膜对象之基材；以及磁场生成部，其系藉由发生用以于前述成膜滚轮之表面生成电浆的磁场，形成在卷绕于该成膜滚轮之基材上形成皮膜之成膜区域；其中前述一对之成膜滚轮，其系由：第1成膜滚轮、及以轴心与该第1成膜滚轮互相平行之方式与该第1成膜滚轮隔着间隔而配设之第2成膜滚轮所构成，前述磁场生成部，其系作为前述成膜区域于前述一对成膜滚轮之间之空间的相对空间内，形成第1成膜区域，而且，于该相对空间以外之空间而与前述成膜滚轮之表面相邻之区域，形成第2成膜区域。