用于修正光罩的倾角的设备以及基板处理设备;APPARATUS FOR AMENDING TILT OF MASK AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

摘要

提供一种用于修正光罩的倾角的设备。所述设备包含：光罩支撑主体，其经配置以支撑其上形成有图案的光罩；光罩支撑主体移动单元，其经配置以改变光罩支撑主体的XY平面的倾角；照相机单元，其为穿过设置在基板支撑件上的基板的雷射光束拍照，以产生雷射光束穿透图像；以及控制单元，其经配置以控制光罩支撑主体移动单元，由此改变光罩的XV平面的倾角，以使得当雷射光束穿透图像偏离参考焦点图像时，雷射光束穿透图像与参考焦点图像匹配。