| 摘要 |
<p>Ein Fertigungsverfahren für eine Solarzelle (10), bei dem, nachdem auf einer Hauptfläche des Substrats (21) eine Textur (26) gebildet wurde, Infrarotlicht in einem vorbestimmten Wellenzahlbereich auf die Hauptfläche aufgebracht wird, auf der die Textur (26) gebildet ist, eine Wellenzahl bei einer spezifizierten Transmissions-Nachweisrate des durch das Substrat (21) hindurch gegangenen und nachgewiesenen Infrarotlichts erfasst wird, die Tx-Größe des Substrats (21) auf der Grundlage der erfassten Wellenzahl berechnet wird unter Verwendung einer zuvor ermittelten Beziehung zwischen der Wellenzahl bei der spezifizierten Transmissions-Nachweisrate und der Tx-Größe, und, wenn die berechnete Tx-Größe sich innerhalb eines Referenzwertbereichs befindet, auf der Hauptfläche eine Sammelelektrode gebildet wird.</p> |
