发明名称 Schichtwiderstand und Verfahren zu dessen Herstellung
摘要 <p>Die Erfindung betrifft einen Schichtwiderstand, enthaltend einen Platin-Messwiderstand auf einem elektrisch isolierenden Substrat und mit dem Messwiderstand verbundene Anschlussdrähte, die einen ummantelten Nickelkern aufweisen, wobei der Mantel aus Silber oder einer Mischung aus Silber mit Glas oder Keramik besteht. Ferner betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung von Schichtwiderständen aus mindestens einem Widerstandsmuster auf elektrisch isolierender Oberfläche eines Substrats, eine das Widerstandsmuster bedeckende Glasabdeckung und aus der Glasabdeckung ragende Anschlussdrähte, die mit dem Widerstandsmuster elektrisch leitend verbunden sind, wobei mehrere gemeinsam verglaste Schichtwiderstände durch Brechen vereinzelt werden.</p>
申请公布号 DE102007046907(B4) 申请公布日期 2015.02.26
申请号 DE20071046907 申请日期 2007.09.28
申请人 HERAEUS SENSOR TECHNOLOGY GMBH 发明人 ZINKEVICH, MATSVEI
分类号 H01C1/14;C25D7/06;H01C7/00 主分类号 H01C1/14
代理机构 代理人
主权项
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