发明名称 |
VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINER MEMS-VORRICHTUNG UND MEMS-VORRICHTUNG |
摘要 |
<p>Ein Verfahren zum Herstellen einer MEMS-Vorrichtung umfasst ein Bereitstellen eines Hohlraums innerhalb einer Schicht, die zu einer Opferschicht benachbart ist. Der Hohlraum erstreckt sich zu der Opferschicht und umfasst einen Kapillarschlitz, der in die Schicht ragt. Die Opferschicht wird abgetragen, indem die Opferschicht einem Ätzmittel ausgesetzt wird, das durch den Hohlraum eingeführt wird.</p> |
申请公布号 |
DE102014216777(A1) |
申请公布日期 |
2015.02.26 |
申请号 |
DE201410216777 |
申请日期 |
2014.08.22 |
申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG |
发明人 |
DEHE, ALFONS;GLACER, CHRISTOPH;PIRK, SOENKE |
分类号 |
B81C1/00;B81B1/00;B81B7/02 |
主分类号 |
B81C1/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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