发明名称 | 一种卷对卷薄带表面离子抛光动态装置 | ||
摘要 | 本实用新型涉及一种离子抛光装置,特别涉及一种卷对卷薄带表面离子抛光动态装置。主要解决抛光室很难达到高真空,导致高温超导涂层导体基带抛光效果不理想的技术问题。本实用新型的技术方案为:一种卷对卷薄带表面离子抛光动态装置,包括依次连通的放卷室、收卷室、离子抛光室,所述离子抛光室内设置Ar离子抛光机,离子抛光室通过管路外接抽气泵组,其特征是在离子抛光室两侧设有与之连通的级差真空室,所述级差真空室通常设有2-5级,即分割成依次连通的2-5个腔室,每个腔室通过管路联通抽气泵组。本实用新型可以用于连续生产基底表面粗糙度极低的金属长带或者非金属长带。 | ||
申请公布号 | CN204171801U | 申请公布日期 | 2015.02.25 |
申请号 | CN201420626901.7 | 申请日期 | 2014.10.28 |
申请人 | 上海上创超导科技有限公司 | 发明人 | 蔡传兵;刘志勇;郭艳群;陆齐 |
分类号 | B24B1/00(2006.01)I | 主分类号 | B24B1/00(2006.01)I |
代理机构 | 上海浦东良风专利代理有限责任公司 31113 | 代理人 | 张劲风 |
主权项 | 一种卷对卷薄带表面离子抛光动态装置,包括依次连通的放卷室、收卷室、离子抛光室,所述离子抛光室内设置Ar离子抛光机,离子抛光室通过管路外接抽气泵组,其特征是在离子抛光室两侧设有与之连通的级差真空室,级差真空室每个腔室通过管路联通抽气泵组。 | ||
地址 | 201401 上海市奉贤区望园路2066弄4幢 |