| 发明名称 | 层叠体 | ||
| 摘要 | 本发明涉及的层叠体包括基材(A)、在基材(A)的至少一个面上依次层叠的含硅层(B)、和由具有聚合性基团的有机酸金属盐得到的聚合物层(C)，含硅层(B)具有含有硅原子和氮原子、或硅原子和氮原子和氧原子、或硅原子和氮原子和氧原子和碳原子的氮高浓度区域，上述氮高浓度区域是通过在氧浓度为5％以下及/或室温23℃下的相对湿度为30％以下的条件下，对在基材(A)上形成的聚硅氮烷膜进行能量射线照射，将该膜的至少一部分改性而形成的。 | ||
| 申请公布号 | CN104379340A | 申请公布日期 | 2015.02.25 |
| 申请号 | CN201380026125.5 | 申请日期 | 2013.07.03 |
| 申请人 | 三井化学株式会社;三井化学东赛璐株式会社 | 发明人 | 福本晴彦;小田川健二;臼井英夫;高桥英一;高木斗志彦;高野雅子;中村修;进藤清孝 |
| 分类号 | B32B9/00(2006.01)I;B32B27/00(2006.01)I;B32B37/00(2006.01)I;H01L31/048(2014.01)I | 主分类号 | B32B9/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人 | 杨宏军 |
| 主权项 | 一种层叠体，其包括基材(A)、在所述基材(A)的至少一个面上依次层叠的含硅层(B)、和由具有聚合性基团的有机酸金属盐得到的聚合物层(C)，所述含硅层(B)具有含有硅原子和氮原子、或硅原子和氮原子和氧原子、或硅原子和氮原子和氧原子和碳原子的氮高浓度区域，所述氮高浓度区域是通过在氧浓度为5％以下及/或室温23℃下的相对湿度为30％以下的条件下，对在所述基材(A)上形成的聚硅氮烷膜进行能量射线照射，将该膜的至少一部分改性而形成的。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||