| 发明名称 | 粉粒产生少的溅射靶及该靶的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及粉粒产生少的溅射靶，其特征在于，在富有延性的基质相内以1~50%的体积比率存在金属间化合物、氧化物、碳化物、碳氮化物、其它无延性的物质的靶表面中缺陷面积率为0.5%以下；还涉及该靶的制造方法。本发明提供可以改善存在大量无延性的物质的靶表面，可以防止或抑制溅射时结瘤或粉粒产生的溅射靶及其表面加工方法。 | ||
| 申请公布号 | CN102666912B | 申请公布日期 | 2015.02.25 |
| 申请号 | CN201080058141.9 | 申请日期 | 2010.12.06 |
| 申请人 | 吉坤日矿日石金属株式会社 | 发明人 | 小出启 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01)I;C22C1/10(2006.01)I;G11B5/851(2006.01)I;C22C32/00(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人 | 王海川;穆德骏 |
| 主权项 | 一种粉粒产生少的烧结溅射靶，其特征在于，在富有延性的基质相内以1～50％的体积比率存在金属间化合物、氧化物、碳化物、碳氮化物、其它无延性的物质的靶表面中，缺陷面积率为0.5％以下，所述缺陷为研磨加工面、即表面抛光面中“超过平均值+3σ”的部位，或者平面研磨加工面中“平均值+3σ以上”的部位以及“平均值‑3σ以下”的部位，所述平均值以及3σ通过利用激光显微镜的三维形状分析来确认。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||