发明名称 |
光刻版设计方法及光刻工艺中不同光刻机的匹配方法 |
摘要 |
本发明提供了一种光刻版设计方法及光刻工艺中不同光刻机的匹配方法,根据同一产品的图形层次以及空闲的不同类型光刻机的数量确定每一图形层次光刻工艺所使用的光刻机,其中,用于第一类光刻机的光刻版版图由整数倍的用于第二类光刻机的光刻版版图组成,所述第一类光刻机的曝光视场大于所述第二类光刻机的曝光视场。如此,可以在同一产品的光刻工艺中采用多种型号的光刻机,并且仍然可实现产品图形的对准,在不牺牲第一类光刻机效率的前提下,兼容第二类光刻机的效率,充分发挥在线各类型光刻机的产能。 |
申请公布号 |
CN104375376A |
申请公布日期 |
2015.02.25 |
申请号 |
CN201410674981.8 |
申请日期 |
2014.11.21 |
申请人 |
杭州士兰集成电路有限公司 |
发明人 |
李立文;赵学锋;俞马锋;宋金伟;李志栓 |
分类号 |
G03F1/00(2012.01)I |
主分类号 |
G03F1/00(2012.01)I |
代理机构 |
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 |
代理人 |
郑玮 |
主权项 |
一种光刻版设计方法,其特征在于:根据同一产品的图形层次以及空闲的不同类型光刻机的数量确定每一图形层次光刻工艺所使用的光刻机,其中,用于第一类光刻机的光刻版版图由整数倍的用于第二类光刻机的光刻版版图组成,所述第一类光刻机的曝光视场大于所述第二类光刻机的曝光视场。 |
地址 |
310018 浙江省杭州市杭州经济技术开发区10号大街(东)308号 |