发明名称 基于放大反馈实现直调带宽扩展的单片集成激光器芯片
摘要 一种基于放大反馈实现直调带宽扩展的单片集成激光器芯片,包括:一下限制层;一有源层,其制作在下限制层上;一上限制层,其制作在有源层上;一波导层,为条状,其纵向制作在上限制层上面的中间;一P<sup>+</sup>电极层,其是用隔离沟将其分为三段,其制作在波导层上;一N<sup>+</sup>电极层,其制作在下限制层的背面;其中分为三段的P<sup>+</sup>电极层分别对应为DFB激光器区、无源相位调节区和有源放大反馈区,该DFB激光器区对应的上限制层部分制作有分布反馈Bragg光栅层;该无源相位调节区对应的有源层与DFB激光器区和有源放大反馈区对应的有源层的增益峰存在90nm蓝移。本发明可以突破普通激光器芯片的直调带宽限制,用一种巧妙、有效且成本低的方法实现激光器直调带宽的扩展。
申请公布号 CN104377544A 申请公布日期 2015.02.25
申请号 CN201410709708.4 申请日期 2014.11.28
申请人 中国科学院半导体研究所 发明人 余力强;吉晨;赵玲娟;陆丹;王浩;郭露
分类号 H01S5/12(2006.01)I;H01S5/06(2006.01)I 主分类号 H01S5/12(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 任岩
主权项 一种基于放大反馈实现直调带宽扩展的单片集成激光器芯片,包括:一下限制层;一有源层,其制作在下限制层上;一上限制层,其制作在有源层上;一波导层,为条状,其纵向制作在上限制层上面的中间;一P<sup>+</sup>电极层,其是用隔离沟将其分为三段,其制作在波导层上;一N<sup>+</sup>电极层,其制作在下限制层的背面;其中分为三段的P<sup>+</sup>电极层分别对应为DFB激光器区、无源相位调节区和有源放大反馈区,该DFB激光器区对应的上限制层部分制作有分布反馈Bragg光栅层;该无源相位调节区对应的有源层与DFB激光器区和有源放大反馈区对应的有源层的增益峰存在90nm蓝移。
地址 100083 北京市海淀区清华东路甲35号
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