发明名称 |
成像光学系统和投射曝光设备 |
摘要 |
一种用于将物场成像于像场的成像光学单元。所述成像光学单元具有遮挡的光瞳(21)。该光瞳(21)具有中心(Z),中心场点的主光线通过该中心,所述成像光学单元还具有多个成像光学组件。所述成像光学单元的连续光瞳遮挡区域(18)的重心(SP)离心地位于所述成像光学单元的光瞳(21)中。根据另一方面,所述成像光学单元以反射方式实现,最后一个反射镜具有用于使成像光通过的通路开口。所述最后一个反射镜的反射表面的边缘区域连续地用于发射成像光,所述边缘区域环绕通路开口。成像光路中的倒数第二个反射镜实现为具有反射表面,其以闭合方式使用,即没有开口。所述通路开口布置为使得其产生光瞳遮挡区域(18),光瞳遮挡区域未居中地地位于成像光学单元的光瞳(21)中。这种成像光学单元导致良好校正的可成像场,同时具有高成像光通量。 |
申请公布号 |
CN104380169A |
申请公布日期 |
2015.02.25 |
申请号 |
CN201380027345.X |
申请日期 |
2013.05.15 |
申请人 |
卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
发明人 |
A.埃普尔;R.米勒;H-J.罗斯塔尔斯基 |
分类号 |
G02B17/06(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G02B17/06(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 11105 |
代理人 |
陈金林 |
主权项 |
将物场(7)成像于像场(8)的成像光学单元(7;22;23),‑其中,所述成像光学单元(7;22;23)具有遮挡的光瞳(21),‑其中,所述光瞳(21)具有中心(Z),中心场点的主光线(16)通过该中心,‑具有多个成像光学组件(M1至M6),其特征在于,所述成像光学单元(7;22;23)的连续光瞳遮挡区域(18)的重心(SP)离心地位于所述成像光学单元(7;22;23)的光瞳(21)中。 |
地址 |
德国上科亨 |