| 发明名称 | 就地高纯锗γ谱仪角响应校准刻度装置 | ||
| 摘要 | 本实用新型提供了一种就地高纯锗γ谱仪角响应校准刻度装置，其特征在于包括：探测器定位组件，贴合就地高纯锗γ谱仪的探测器而放置，用于固定探测器的位置；刻度源放置轨道，刻度源放置轨道为0～90°的弧形，在刻度源放置轨道上，在光子入射角θ＝0°和θ＝90°之间的位置上每隔一定间隔设置一个刻度源放置孔；以及刻度源放置轨道定位组件，紧贴刻度源放置轨道，用于固定刻度源放置轨道的位置。根据本实用新型的技术方案，能够简单、准确、高效地实现就地高纯锗γ谱仪角响应校准刻度。 | ||
| 申请公布号 | CN204177979U | 申请公布日期 | 2015.02.25 |
| 申请号 | CN201420642498.7 | 申请日期 | 2014.10.31 |
| 申请人 | 环境保护部核与辐射安全中心 | 发明人 | 吴永乐;岳会国;王超;董淑强;李宏宇 |
| 分类号 | G01T1/36(2006.01)I | 主分类号 | G01T1/36(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 | 代理人 | 许志勇 |
| 主权项 | 一种就地高纯锗γ谱仪角响应校准刻度装置，其特征在于包括：探测器定位组件，贴合所述就地高纯锗γ谱仪的探测器而放置，用于固定所述探测器的位置；刻度源放置轨道，所述刻度源放置轨道为0～90°的弧形，在刻度源放置轨道上，在光子入射角θ＝0°和θ＝90°之间的位置上每隔一定间隔设置一个刻度源放置孔；以及刻度源放置轨道定位组件，紧贴所述刻度源放置轨道，用于固定所述刻度源放置轨道的位置。 | ||
| 地址 | 100082 北京市海淀区红联南村54号 | ||