| 发明名称 | 从膜层叠体去除异物的异物去除方法、膜层叠体的制造方法及制造装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供从膜层叠体去除异物的异物去除方法、膜层叠体的制造方法及制造装置。在该从膜层叠体去除异物的异物去除方法中，一边将包括光学膜、形成在该光学膜上的粘合层、以及层叠在该粘合层上以保护上述光学膜的保护膜的膜层叠体向下游侧输送，一边从上述膜层叠体剥离上述保护膜，并且，自侧方对膜层叠体的发生该保护膜剥离的部分进行抽吸而去除异物。 | ||
| 申请公布号 | CN104369525A | 申请公布日期 | 2015.02.25 |
| 申请号 | CN201410360021.4 | 申请日期 | 2014.07.25 |
| 申请人 | 日东电工株式会社 | 发明人 | 田村透;古泽修也 |
| 分类号 | B32B38/10(2006.01)I;B08B5/04(2006.01)I | 主分类号 | B32B38/10(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人 | 刘新宇;张会华 |
| 主权项 | 一种从膜层叠体去除异物的异物去除方法，其中，一边将包括光学膜、形成在该光学膜上的粘合层、以及层叠在该粘合层上以保护上述光学膜的保护膜的膜层叠体向下游侧输送，一边从上述膜层叠体剥离上述保护膜，并且，自侧方对膜层叠体的发生该保护膜剥离的部分进行抽吸而去除异物。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||