| 发明名称 | 用于镍-磷涂覆的存储磁盘的包含混杂研磨剂的抛光组合物 | ||
| 摘要 | 本发明提供用于镍-磷涂覆的存储磁盘的包含混杂研磨剂的抛光组合物，更具体地说，本发明提供包含(a)研磨剂和(b)水的抛光组合物，所述研磨剂包含(i)具有0.8∶1-1.2∶1的平均纵横比的第一α氧化铝颗粒、(ii)具有大于1.2∶1的平均纵横比的第二α氧化铝、(iii)热解氧化铝颗粒和(iv)湿法二氧化硅颗粒。本发明还提供使用所述抛光组合物抛光基材、尤其是镍-磷基材的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN103627327B | 申请公布日期 | 2015.02.25 |
| 申请号 | CN201310377657.5 | 申请日期 | 2013.08.27 |
| 申请人 | 嘉柏微电子材料股份公司 | 发明人 | R.洛皮塔亚;S.帕拉尼萨米钦纳萨姆比;H.西里沃达尼 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I;B24B29/00(2006.01)I;G11B5/84(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 宋莉 |
| 主权项 | 抛光组合物，其包含：(a)研磨剂，其包含：(i)第一α氧化铝颗粒，其中所述第一α氧化铝颗粒具有0.8:1‑1.2:1的平均纵横比，(ii)第二α氧化铝颗粒，其中所述第二α氧化铝颗粒具有大于1.2:1的平均纵横比，(iii)热解氧化铝颗粒，(iv)湿法二氧化硅颗粒，以及(b)水。 | ||
| 地址 | 美国伊利诺伊州 | ||