发明名称 薄膜晶体管阵列面板及其制造方法
摘要 本发明提供一种薄膜晶体管阵列面板及其制造方法。薄膜晶体管阵列面板包括:栅极线;栅极绝缘层,覆盖栅极线;半导体层,设置在栅极绝缘层上;数据线和漏极,设置在半导体层上;钝化层,覆盖数据线和漏极,并具有暴露漏极的一部分的接触孔;像素电极,通过接触孔电连接到漏极。数据线和漏极均具有包括钛的下层和铜的上层的双层,下层比上层宽,且下层具有暴露的区域。栅极绝缘层可具有台阶形状。
申请公布号 CN102104049B 申请公布日期 2015.02.25
申请号 CN201010570119.4 申请日期 2010.12.02
申请人 三星显示有限公司 发明人 宋溱镐;崔新逸;洪瑄英;金时烈;李基晔;尹在亨;金成烈;徐五成;裴良浩;郑钟铉;杨东周;金俸均;吴和烈;洪泌荀;金柄范;朴帝亨;丁有光;金钟仁;徐南锡
分类号 H01L27/12(2006.01)I;H01L29/786(2006.01)I;H01L29/49(2006.01)I;H01L23/52(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I 主分类号 H01L27/12(2006.01)I
代理机构 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人 韩明星;王青芝
主权项 一种薄膜晶体管阵列面板,所述薄膜晶体管阵列面板包括:栅极线;栅极绝缘层,覆盖栅极线;半导体层,设置在栅极绝缘层上;数据线和漏极,设置在半导体层上;钝化层,覆盖数据线和漏极,并具有暴露漏极的一部分的接触孔;像素电极,通过接触孔电连接到漏极,其中,数据线和漏极均具有包括钛的下层和铜的上层的双层,下层比上层宽,且下层具有暴露的区域,其中,栅极绝缘层具有第一部分和第二部分,第一部分具有第一厚度,第二部分具有比第一厚度小的第二厚度,所述第一部分比半导体层宽。
地址 韩国京畿道龙仁市