发明名称 | 化学气相沉积装置 | ||
摘要 | 本发明提供了一种化学气相沉积装置,所述化学气相沉积装置包括:支撑构件,被构造成支撑基板的下表面;遮蔽框架,被构造成覆盖基板的上表面的边缘部分;以及护套,具有吹扫气体供应开口,吹扫气体供应开口被构造成供应吹扫气体,使得吹扫气体从位于基板的下表面下方的位置离开吹扫气体供应开口。护套邻近于遮蔽框架的一部分并被构造成覆盖基板的下表面的一部分。排放单元设置在护套中,或者排放单元位于护套和遮蔽框架之间。 | ||
申请公布号 | CN104372306A | 申请公布日期 | 2015.02.25 |
申请号 | CN201410117013.7 | 申请日期 | 2014.03.26 |
申请人 | 三星SDI株式会社 | 发明人 | 金友镇 |
分类号 | C23C16/455(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/455(2006.01)I |
代理机构 | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人 | 王占杰;刘灿强 |
主权项 | 一种化学气相沉积装置,所述化学气相沉积装置包括:支撑构件,被构造成支撑基板的下表面;遮蔽框架,被构造成覆盖基板的上表面的边缘部分;以及护套,具有吹扫气体供应开口,吹扫气体供应开口被构造成供应吹扫气体,使得吹扫气体从位于基板的下表面下方的位置离开吹扫气体供应开口,护套邻近于遮蔽框架的一部分并被构造成覆盖基板的下表面的一部分,其中,排放单元设置在护套中,或者排放单元位于护套和遮蔽框架之间。 | ||
地址 | 韩国京畿道龙仁市 |