发明名称 常压下提拉法生长大尺寸氧化镓单晶的方法
摘要 本发明涉及一种常压下提拉法生长大尺寸氧化镓单晶的方法,步骤如下:(1)将氧化镓粉末真空干燥,除去吸附的水,并压成料块,得氧化镓胚料;(2)氧化镓籽晶选用&lt;010&gt;、&lt;100&gt;或者&lt;001&gt;方向籽晶,切割、超声清洗、干燥;将氧化镓胚料装入晶体生长炉内的铱金坩埚中,抽真空到(1-3)×10<sup>-4</sup>Pa,充入1%的氧气和99%的二氧化碳气体至一个大气压;采用中频感应加热方式将氧化镓胚料加热熔化,依次经收颈、放肩、等径生长和收尾阶段,提脱晶体,即得。本发明使用适当比例的混合气体、与干锅相适应的后热器、以及保温系统,可在常压下的密闭体系中生长β-Ga<sub>2</sub>O<sub>3</sub>晶体,并克服晶体生长中存在的氧化镓的挥发和分解。
申请公布号 CN104372408A 申请公布日期 2015.02.25
申请号 CN201410778168.5 申请日期 2014.12.15
申请人 山东大学 发明人 贾志泰;穆文祥;陶绪堂
分类号 C30B29/16(2006.01)I;C30B15/00(2006.01)I 主分类号 C30B29/16(2006.01)I
代理机构 济南金迪知识产权代理有限公司 37219 代理人 杨磊
主权项 一种常压下提拉法生长大尺寸氧化镓单晶的方法,步骤如下:(1)原料的选取和处理将纯度≥99.99%的氧化镓粉末在100‑200℃下真空干燥,除去原料中吸附的水,并将干燥后的原料压成料块,得氧化镓胚料,备用;(2)籽晶的选取氧化镓籽晶选用&lt;010&gt;、&lt;100&gt;或者&lt;001&gt;方向籽晶,切割、超声清洗、干燥后备用;(3)晶体生长将步骤(1)的氧化镓胚料装入晶体生长炉内的铱金坩埚中,晶体生长炉内抽真空到(1‑3)×10<sup>‑4</sup>Pa,充入氧气和二氧化碳气体至一个大气压,其中氧气、二氧化碳的体积分数分别为0.5‑2%、98‑99.5%;采用中频感应加热方式将氧化镓胚料加热熔化,将熔体过热10‑30℃,恒温1‑2小时,排除熔体中气泡;然后降温至氧化镓胚料完全熔化时的温度,恒温0.5‑1.5小时;在高于熔体熔点1‑3℃下入氧化镓籽晶并收颈,当籽晶直径收细至2‑3mm时进行放肩,经等径生长后进入收尾阶段;收颈、放肩、等径生长和收尾阶段的提拉速度:1‑2mm/小时,转速:5‑30转/分钟;晶体生长至所需尺寸后,升温20‑30℃,恒温30分钟,从熔体中提脱晶体;提脱晶体后,以10‑30℃/小时的速率降温到室温,即得氧化镓单晶。
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