正性光敏材料

摘要

本发明涉及新颖的正性工作光敏组合物，其具有：至少一种光致产酸剂；至少一种酚醛清漆聚合物；至少一种具有聚合物主链的聚合物，所述聚合物包含下式的结构，其中R₁-R₅独立地为-H或-CH₃，A为直链或支链C₁-C₁₀亚烷基，B为C₁-C₁₂烷基或脂环族基团，D为连接基，该连接基可以是化学键、其中羰基碳键接至聚合物主链的羧酸酯基团、或其中羰基碳键接至聚合物主链的-COOCH₂-基团，Ar为取代或未取代的芳族基团或杂芳族基团，E为直链或支链C₂-C₁₀亚烷基，G为酸可裂解基团。本发明进一步涉及使用该新型组合物以形成图像的方法。

主权项

正性工作光敏组合物，包含：a)至少一种光致产酸剂；b)至少一种酚醛清漆聚合物；c)至少一种具有聚合物主链的聚合物，所述聚合物包含下式的结构：其中R₁‑R₅独立地为‑H、F或‑CH₃，A为直链或支链C₁‑C₁₀亚烷基，B为C₁‑C₁₂烷基或脂环族基团，D为连接基，该连接基可以是化学键、其中羰基碳键接至聚合物主链的羧酸酯基团或其中羰基碳键接至聚合物主链的‑COOCH₂‑基团，Ar为取代或未取代的芳族基团或杂芳族基团，E为直链或支链C₂‑C₁₀亚烷基，G为酸可裂解基团，v为0摩尔％‑10摩尔％，w为0摩尔％‑20摩尔％，x为14摩尔％‑80摩尔％，y为0摩尔％‑40摩尔％且z为20摩尔％‑50摩尔％。