| 摘要 |
<p>ドライエッチング装置１は基板５を搬送するトレイ３を備える。トレイ３には３枚の基板５を収容可能な貫通孔である基板収容孔４Ａ〜４Ｃが設けられている。基板５は基板収容孔４Ａ〜４Ｃの孔壁から突出する基板支持部１１により支持される。プラズマを発生させるチャンバ２内にはステージ２１が設けられている。ステージ２１はトレイ３の下面から基板収容孔４Ａ〜４Ｃに挿入され、かつその上端面である基板載置面２８に基板支持部１１から受け渡された基板の５下面が載置される基板載置部２７Ａ〜２７Ｃを備える。角型基板に対する高い形状制御性と良好な生産性の両方を、装置の大型化を抑制しつつ実現できる。</p> |
