发明名称 炭化珪素半導体素子及びその製造方法
摘要 <p>炭化珪素半導体素子は、第1導電型のドリフト層上に位置する第2導電型のボディ領域と、ボディ領域上に位置する第1導電型の不純物領域と、ボディ領域及び不純物領域を貫通し、ドリフト層に達するトレンチと、トレンチの表面上に配置されたゲート絶縁膜と、ゲート絶縁膜上に配置されたゲート電極とを備え、トレンチの表面は、第1の側面と、第1の側面と対向する第2の側面とを含み、ボディ領域のうち第1の側面に位置する部分の少なくとも一部の第2導電型のドーパント濃度は、ボディ領域のうち第2の側面に位置する部分の第2導電型のドーパント濃度よりも大きい。</p>
申请公布号 JPWO2013001782(A1) 申请公布日期 2015.02.23
申请号 JP20120551399 申请日期 2012.06.25
申请人 发明人
分类号 H01L29/12;H01L21/336;H01L29/78 主分类号 H01L29/12
代理机构 代理人
主权项
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