发明名称 多層セラミック基板の製造方法
摘要 <p>多層セラミック基板における表面電極の接合強度を高めるため、表面電極形成のための導電性ペーストにアルミナなどの酸化物を添加しておき、焼成中において、セラミック素体中のガラス成分と反応させることが行なわれるが、表面電極の、ビア導体に接する領域では、ガラス成分の浸透が阻害され、表面電極の焼結が十分に進まない、という課題がある。この課題を解決するため、表面電極(14)に接続される表層ビア導体(16)を、表面電極(14)を貫通して、その一方端部が表面電極(14)から露出するように形成する。好ましくは、表面電極(14)上および表層ビア導体(16)の一方端部上に、めっき膜(15)などが形成される。</p>
申请公布号 JPWO2013001973(A1) 申请公布日期 2015.02.23
申请号 JP20130522547 申请日期 2012.05.31
申请人 发明人
分类号 H05K3/46;H01L23/12;H01L23/13;H01L25/00 主分类号 H05K3/46
代理机构 代理人
主权项
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