| 摘要 |
可視レーザ光および近赤外レーザ光を、安価な装置構成で高い制御性をもってウエハーなどの被処理体に照射することができ、高い生産性で被処理体をレーザ処理することを可能にする。レーザ光処理装置が、可視レーザ光を出力する可視レーザ光源Ｇ１と、可視光レーザ光を導波する可視光学系ＧＳ（光ファイバＧ２およびコリメートレンズＧ３）と、近赤外レーザ光を出力する近赤外レーザ光源Ｒ１と、近赤外レーザ光を導波する近赤外光学系ＲＳ（光ファイバＲ２、集光レンズＲ３、光ファイバＲ４、およびコリメートレンズＲ５）と、可視光学系ＧＳにより導波された可視レーザ光と、近赤外光学系ＲＳにより導波された近赤外レーザ光とを合波して被処理体１に導波する合波光学系ＭＳ（ダイクロイックミラーＭ１、ガルバノミラーＭ２、およびｆ&thetas;レンズＭ３）を有する。 |
