发明名称 酸化カーボン薄膜の製造方法および酸化カーボン薄膜を有する素子とその製造方法
摘要 <p>本発明の酸化カーボン薄膜の製造方法は、カーボン薄膜と、カーボン薄膜に接するとともにCu2OおよびCuOの混合体を含む銅酸化物とを準備する第1のステップと;カーボン薄膜と銅酸化物との間にカーボン薄膜側を正とする電圧または電流を印加することにより、カーボン薄膜における銅酸化物と接する部分を酸化させて酸化カーボンにより構成される酸化部に変化させ、酸化部を有する酸化カーボン薄膜を形成する第2のステップと;を含む。この製造方法は、グラフェンをはじめとするカーボン薄膜に対してナノメートルオーダーのパターンを形成しうる方法であって、電子デバイスを製造するためのプロセス技術としての汎用的な応用が可能である。</p>
申请公布号 JPWO2013011647(A1) 申请公布日期 2015.02.23
申请号 JP20120546290 申请日期 2012.07.05
申请人 发明人
分类号 C01B31/02;H01L21/316;H01L29/06 主分类号 C01B31/02
代理机构 代理人
主权项
地址