| 摘要 |
<p>【課題】所望の抵抗率を有する金属酸化物層を精度よく形成することができる抵抗変化素子の製造方法および製造装置を提供する。【解決手段】本発明の一実施形態に係る抵抗変化素子の製造方法は、第１の抵抗率を有する第１の金属酸化物を形成する工程と、上記第１の抵抗率とは異なる第２の抵抗率を有する第２の金属酸化物を形成する工程とを含む。上記第１の金属酸化物は、金属の酸化物からなる第１のターゲットをスパッタしつつ、上記金属からなる第２のターゲットを第１の電力でスパッタすることで、基板上に形成される。上記第２の金属酸化物層は、第１のターゲットをスパッタしつつ、上記第２のターゲットを上記第１の電力と異なる第２の電力でスパッタすることで、上記第１の金属酸化物層上に形成される。【選択図】図１</p> |
