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发明名称
抗う蝕性組成物の製造方法
摘要
非水溶性グルカン形成抑制効果を有し、かつ低酸産生性であるサイクロデキストラン含有組成物を低コストで高効率に製造可能な製造方法を提供することを目的とする。当該製造方法は、サイクロデキストラン合成酵素をデキストラン含有培地に作用させてサイクロデキストラン含有溶液を得て、得られたサイクロデキストラン含有溶液を分子分画400〜800ダルトンのナノフィルトレーション膜(NF膜)処理する。
申请公布号
JPWO2012172635(A1)
申请公布日期
2015.02.23
申请号
JP20130520346
申请日期
2011.06.14
申请人
宮城 貞夫
发明人
宮城 貞夫;儀部 茂八;伊是名 信一郎
分类号
A61K31/724;A23L1/236;A23L1/30;A61K8/35;A61K8/73;A61K8/97;A61K31/122;A61K31/7016;A61K36/00;A61K36/60;A61P1/02;A61Q11/00
主分类号
A61K31/724
代理机构
代理人
主权项
地址
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