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发明名称 正型光阻组成物及光阻图型之形成方法
摘要
申请公布号 TWI474117 申请公布日期 2015.02.21
申请号 TW099106927 申请日期 2010.03.10
申请人 东京应化工业股份有限公司 发明人 清水宏明;仁藤豪人;土屋纯一;太宰尚宏
分类号 G03F7/039;G03F7/004;C08F220/26;C08F220/38;H01L21/027 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种正型光阻组成物，其为含有经由酸之作用而增大对硷显影液之溶解性的基材成份(A)，与经由曝光而发生酸之酸产生剂成份(B)，与含氟化合物成份成份(F)，其特征为，前述基材成份(A)为含有具有下述通式(a0-1)所表示之结构单位(a0)，与含有酸解离性溶解抑制基之丙烯酸酯所衍生之结构单位(a1)之高分子化合物(A1)，且，前述含氟化合物成份(F)为含有具有含硷解离性基之结构单位(f1)的含氟高分子化合物(F1)，
地址 日本
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