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发明名称 设计规则及微影程序共同最佳化
摘要
申请公布号 TWI474104 申请公布日期 2015.02.21
申请号 TW102115302 申请日期 2013.04.29
申请人 ＡＳＭＬ荷兰公司 发明人 刘晓峰
分类号 G03F1/36;G03F7/20 主分类号 G03F1/36
代理机构 代理人 林嘉兴 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种用于针对一微影投影装置之一图案转印程序获得一或多个设计规则之一或多个设计变数之值的方法，该方法包含：同时地最佳化该图案转印程序之一或多个设计变数及该一或多个设计规则之该一或多个设计变数，其中该最佳化包含：评估量测该图案转印程序之一度量(metric)特性之一成本函数，该成本函数为该图案转印程序之一或多个设计变数及该一或多个设计规则之一或多个设计变数的一函数。
地址 荷兰
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