发明名称 光源装置及投影机
摘要
申请公布号 TWI474099 申请公布日期 2015.02.21
申请号 TW100123392 申请日期 2011.07.01
申请人 精工爱普生股份有限公司 发明人 秋山光一
分类号 G03B21/14;G03B21/00 主分类号 G03B21/14
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种光源装置,其具备:第1激发光生成部,其包含具有生成第1激发光之第1固体光源之第1固体光源阵列、及对应上述第1固体光源而设且具有使上述第1固体光源生成之激发光略平行化之第1准直透镜的第1准直透镜阵列;第2激发光生成部,其包含具有生成第2激发光之第2固体光源之第2固体光源阵列、及对应上述第2固体光源而设且具有使上述第2固体光源生成之激发光略平行化之第2准直透镜的第2准直透镜阵列;激发光合成部,其将上述第1激发光与上述第2激发光合成;聚光光学系统,其将由上述激发光合成部所合成之上述第1激发光及上述第2激发光于特定之聚光位置聚光;萤光生成部,其位于上述聚光位置附近,且具有自上述聚光光学系统所聚光之上述第1激发光及上述第2激发光中之至少一部分生成萤光的萤光层;上述第1固体光源阵列具有至少2个上述第1固体光源,上述第2固体光源阵列具有至少2个上述第2固体光源,上述第1准直透镜阵列具有至少2个第1准直透镜,上述第2准直透镜阵列具有至少2个第2准直透镜,上述激发光合成部使上述第1激发光通过并且反射上述第2激发光,藉此将上述第1激发光与上述第2激发光合成。
地址 日本