| 主权项 |
一种光罩基板，其系在透明基板上形成以1或2以上之层所构成的膜，该膜之最表层为铬系材料所构成，且该最表层上设置乾蚀刻用之蚀刻光罩膜的光罩基板，其特征系上述蚀刻光罩膜为使用含有下述(A)~(C)之氧化矽系材料膜形成用组成物形成膜之膜厚1~5nm的氧化矽系材料膜，(A)水解性矽烷化合物之水解缩合物为以矽为基准含有70%以上之下述一般式(3)表示之化合物的水解性矽烷化合物之单体或2种以上的混合物，RnSiX4-n(3)式中，R系氢原子或碳数1~12之脂肪族烃基或芳香族烃基，X系碳数1~4之烷氧基、卤素原子、或碳数2~5之烷基羰氧基，n系0或1，(B)下述一般式(2)MA (2)式中，M系三级鋶或四级铵，A系非亲核性相对离子所表示的化合物及(C)有机溶剂。 |
