| 主权项 |
一种正型光阻组成物，其为含有经由酸之作用而增大对硷显影液之溶解性的基材成份(A)，及经由曝光而发生酸之酸产生剂成份(B)之正型光阻组成物，其特征为，前述基材成份(A)为含有具有下述通式(a0-1)所表示之结构单位(a0-1)、下述通式(a0-2)所表示之结构单位(a0-2)，及下述通式(a1-0-1)所表示之结构单位(a1-0-1)的高分子化合物(A1)，相对于构成前述高分子化合物(A1)之全结构单位，前述结构单位(a0-1)之比例为10～40莫耳%，前述结构单位(a0-2)之比例为5～20莫耳%，前述结构单位(a1-0-1)之比例为10～55莫耳%，[式中，R1、R分别独立表示氢原子、碳数1～5之烷基或碳数1～5之卤化烷基，R2、A、B为2价之键结基，R3为其环骨架中含有-SO2-之环式基，R4、X1为酸解离性溶解抑制基]。 |
