发明名称 可调控光学模态之垂直共振腔面射型雷射
摘要
申请公布号 TWI474569 申请公布日期 2015.02.21
申请号 TW101130064 申请日期 2012.08.16
申请人 许晋玮;杨英杰 发明人 许晋玮;杨英杰
分类号 H01S5/183;H01S5/187 主分类号 H01S5/183
代理机构 代理人
主权项 一种可调控光学模态之垂直共振腔面射型雷射,系包括:一基板;以及一外延层结构,系堆叠于该基板上,其包含一第一分布式布拉格反射镜(Distributed Bragg Reflector,DBR)、一堆叠于该第一分布式布拉格反射镜上之发光区(Active Region)、及一堆叠于该发光区上之第二分布式布拉格反射镜,该发光区具有一下切结构(Undercut Structure),该下切结构系位于选自于该发光区上方或下方所组成之群组之位置,而该下切结构系在铝(Al)复合层部分侧边蚀刻有一中央之电流局限区域,且该铝复合层中含有第三族元素之铝超过20%,而该电流局限区域系为环形区域,具有一小于5μm之直径,其中,该第二分布式布拉格反射镜系包含一扩散结构,该扩散结构系位于该第二分布式布拉格反射镜顶面中央区域周围经由掺杂扩散制程而将不同组成之多晶层(Multi-Layer)选择性地呈非序排列(Disorder)为单一组成之单晶层(Single Layer)状态,俾使该第二分布式布拉格反射镜成为可控制光学模态数目之DBR反射镜。
地址 台北市信义区松山路439号3楼