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经营范围
发明名称
正型光阻组成物及光阻图型之形成方法
摘要
申请公布号
TWI474116
申请公布日期
2015.02.21
申请号
TW099106622
申请日期
2010.03.08
申请人
东京应化工业股份有限公司
发明人
柿野谷泰彦;本池直人
分类号
G03F7/039;C08F220/38;C07C381/12;G03F7/004;H01L21/027
主分类号
G03F7/039
代理机构
代理人
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
一种正型光阻组成物,其为含有经由酸之作用而增大对硷显影液之溶解性的基材成份(A),及经由曝光而发生酸之酸产生剂成份(B)之正型光阻组成物,其特征为,前述基材成份(A)为含有具有下述通式(a0-1)所表示之结构单位(a0),且,其结构中含酸解离性溶解抑制基之高分子化合物(A1),前述酸产生剂成份(B)为含有下述由通式(b1-1)所表示之化合物所形成之酸产生剂(B1),
地址
日本
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