| 发明名称 |
直线型扫描溅射系统及方法 |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
TWI473900 |
申请公布日期 |
2015.02.21 |
| 申请号 |
TW101140693 |
申请日期 |
2012.11.02 |
| 申请人 |
因特瓦克公司 |
发明人 |
布朗 大卫 沃德;沙 维内;彼得森 泰瑞;布拉克 泰瑞 |
| 分类号 |
C23C14/34 |
主分类号 |
C23C14/34 |
| 代理机构 |
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代理人 |
徐宏昇 台北市中正区忠孝东路1段83号20楼之2;李纪颖 台北市中正区忠孝东路1段83号20楼之2;刘晏慈 台北市中正区忠孝东路1段83号20楼之2 |
| 主权项 |
一种溅射系统，包括：一处理腔室；一设置于处理腔室壁上之溅射靶材。一可移动之磁铁装置，设置于一溅射靶材后之线型轨道上，并可往复滑动；一基板传输系统，连续以一恒定速度传输多数基板通过溅射靶材；其中，该磁铁在该线型轨道上滑动的速度至少比该基板传输恒定速度快数倍。 |
| 地址 |
美国 |
