Herstellung eines Schichtelements für einen optoelektronischen Halbleiterchip

摘要

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Schichtelements für einen optoelektronischen Halbleiterchip. Das Verfahren umfasst ein Bereitstellen einer Ausgangsschicht. Die Ausgangsschicht weist eine Ausnehmung auf. Das Verfahren umfasst des Weiteren ein Strukturieren der Ausgangsschicht zum Bilden des Schichtelements. Das Schichtelement weist eine Aussparung auf, welche wenigstens zum Teil aus der Ausnehmung der Ausgangsschicht gebildet ist. Die Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements.