ハードマスク反射防止膜材料としてのジ−ｔ−ブトキシジアセトキシシラン系シルセスキオキサン樹脂、及びそれを作製する方法

摘要

フォトリソグラフィーのための反射防止ハードマスク膜で使用するためのＤＩＡＢＳ系シルセスキオキサン樹脂を調製する方法が提供される。あるいは、ＤＩＡＢＳ系シルセスキオキサン樹脂から反射防止膜を調製し、フォトリソグラフィーにおいて前述の反射防止膜を使用する方法が示される。ＤＩＡＢＳ系シルセスキオキサン樹脂は、ジ−ｔ−ブトキシジアセトキシシラン（ＤＩＡＢＳ）、並びにＲ１ＳｉＸ３、Ｒ２ＳｉＸ３、Ｒ３ＳｉＸ３、及びＳｉＸ４の群から選択される少なくとも１つを含むシランモノマーの水による加水分解及び凝縮から形成される構造単位を有し、Ｒ１は、Ｈ又はアルキル基であり、Ｘは、ハロゲン化物又はアルコキシ基であり、Ｒ２は、発色団部分であり、Ｒ３は、反応部位又は架橋部位である。ＤＩＡＢＳ系シルセスキオキサン樹脂は、ジ−ｔ−ブトキシジアセトキシシラン（ＤＩＡＢＳ）の加水分解によって形成される少なくとも１つの四官能性ＳｉＯ４／２単位の存在を特徴とする。