发明名称 SPUTTERING TARGET, DEVICE FOR FASTENING A SPUTTERING TARGET, METHOD FOR RECOGNIZING THE RELEASE OF A SPUTTERING MATERIAL AND PRODUCTION METHOD
摘要 <p>Die Erfindung betrifft ein Sputtertarget (1), insbesondere rundes oder eckiges Planartarget, mit einem Träger, insbesondere mit einer Rückplatte (8), und einem Sputtermaterial (9), wobei der Träger mit dem Sputtermaterial (9) verbunden ist. Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass zumindest der Träger zumindest ein durchden Träger vollständig hindurchgehendes Loch (12, 2a) aufweist, so dass mit Hilfe des Loches (12, 12a) ein Lösen der Verbindung zwischen Träger und Sputtermaterial (9) feststellbar ist. Des Weiteren betrifft die Erfindung eine Vorrichtung (2, 2a) zum Befestigen eines Sputtertargets und ein Verfahren zum Erkennen des Lösens eines Sputtermaterials (9) von einem Träger eines Sputtertargets (1) und ein Verfahren 1 zu Herstellung eines Sputtertargets (1).</p>
申请公布号 WO2015022166(A1) 申请公布日期 2015.02.19
申请号 WO2014EP65927 申请日期 2014.07.24
申请人 HERAEUS MATERIALS TECHNOLOGY GMBH & CO. KG 发明人 SCHOLL, THOMAS
分类号 H01J37/34 主分类号 H01J37/34
代理机构 代理人
主权项
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