发明名称 |
利用八羟基酞菁锌进行微接触印刷石墨烯图案的方法 |
摘要 |
本发明公开了利用八羟基酞菁锌进行微接触印刷石墨烯图案的方法。具体步骤为:1)基底表面处理;2)制备八羟基酞菁锌的二氯甲烷溶液;3)制备羧基化石墨烯水溶液;4)微接触印刷;5)化学镀。本发明的有益效果:1.通过利用八羟基酞菁锌进行微接触印刷石墨烯图案,为微接触印刷行业提供了新思路,2.石墨烯是目前发现的电阻率最小的材料,它比其它线路如铜、银线路具有更强的导电性,3.酞菁类分子和羧基化石墨烯的结合,包括酞菁和石墨烯的π-π相互作用力,以及羧基化石墨烯的羧基与酞菁之间的配位键结合,因此结合非常紧密,4.八羟基酞菁锌原料易得、成本低、稳定,在工业应用上具有很大的潜力。 |
申请公布号 |
CN104356742A |
申请公布日期 |
2015.02.18 |
申请号 |
CN201410619490.3 |
申请日期 |
2014.11.05 |
申请人 |
广西师范学院 |
发明人 |
苏炜;李培源;庞锦英 |
分类号 |
C09D11/02(2014.01)I;B41M5/04(2006.01)I;C08J7/06(2006.01)I |
主分类号 |
C09D11/02(2014.01)I |
代理机构 |
北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11369 |
代理人 |
靳浩 |
主权项 |
利用八羟基酞菁锌进行微接触印刷石墨烯图案的方法,其特征在于:本发明采用的八羟基酞菁锌,具有以下结构式:<img file="FDA0000601843850000011.GIF" wi="903" he="827" />将八羟基酞菁锌的二氯甲烷溶液作为微接触印刷的印刷剂,将PDMS印章的图案转移至聚四氟乙烯基底,再利用酞菁和石墨烯的π‑π相互作用力在基底上得到精美的石墨烯图案,具体步骤如下:步骤1:基底为聚四氟乙烯,将基底材料用乙醇超声清洗1小时,取出80℃真空干燥,用<sup>60</sup>Co伽玛射线对其照射24h;将照射后的基底200份放入三颈瓶中,加入4‑乙烯基吡啶1份,500份蒸馏水,80℃条件下反应1小时,得到表面含有吡啶基的基底;步骤2:将八羟基酞菁锌用二氯甲烷完全溶解;步骤3:将羧基化石墨烯溶于水中,超声1分钟使其均匀溶解;步骤4:将PDMS印章浸泡于八羟基酞菁锌二氯甲烷溶液中1‑2分钟,取出后于N<sub>2</sub>气流中干燥30‑60s,将涂有八羟基酞菁锌二氯甲烷溶液的PDMS印章盖于表面含有吡啶基的基底上,轻压10‑20s,将PDMS印章图案转移至基底,得到印有图案的基底;步骤5:将印有图案的基底浸泡于石墨烯溶液中10‑30min,取出后即可在基底上得到精美的石墨烯图案。 |
地址 |
530001 广西壮族自治区南宁市明秀东路175号广西师范学院 |