发明名称 氧化铈抛光粉及其制备方法
摘要 本发明公开了一种氧化铈抛光粉。氧化铈的纯度CeO<sub>2</sub>/TREO≥99.95%;氧化铈为晶型为单相立方晶系的CeO<sub>2</sub>粉末;氧化铈的形貌为圆饼状,平均粒径为1μm。还公开了其制备方法,包括氯化铈水溶液的制备、沉淀、脱水、焙烧、粉碎等。与现有制备方法相比,本发明制备的抛光粉为氧化铈抛光粉,在制备过程中无需引入F,具有工艺简单,成本低,无废水的优点;氧化铈抛光粉对制品的抛光过程中无划伤、抛光精度高等优点。
申请公布号 CN103571334B 申请公布日期 2015.02.18
申请号 CN201310542032.X 申请日期 2013.11.05
申请人 上海华明高纳稀土新材料有限公司 发明人 赵月昌;高玮;陈曦;蒙素玲;郝祥;杨筱琼
分类号 C09K3/14(2006.01)I;C09G1/02(2006.01)I 主分类号 C09K3/14(2006.01)I
代理机构 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 代理人 左祝安
主权项 氧化铈抛光粉,其特征在于,氧化铈的纯度CeO<sub>2</sub>/TREO≥99.95%;氧化铈为晶型为单相立方晶系的CeO<sub>2</sub>粉末;氧化铈的形貌为圆饼状,平均粒径为1μm; 上述氧化抛光粉的制备方法,包括以下步骤: (1)氯化铈水溶液的制备:将碳酸铈与水打浆,用盐酸溶解至pH为1.5‑2.5,过滤,得澄清透明的氯化铈水溶液,然后加入一定量的聚乙二醇,得澄清透明溶液A;其中,所述聚乙二醇选自分子量为3000‑10000的聚乙二醇,所述聚乙二醇的加入量,以质量计,为碳酸铈质量的5%‑10%; (2)沉淀:在搅拌条件下,将质量分数为5%‑10%的碳酸钠水溶液加入到溶液A中,至pH为6.6‑7.0,保温2~4h;得碱式碳酸铈; (3)脱水、洗涤:将沉淀后的浆液脱水,然后用纯水洗涤至Na<sub>2</sub>O≤400ppm; (4)焙烧:将脱水后的产物焙烧,得氧化铈; (5)粉碎:将焙烧后的产物经气流粉碎至D50为1.0~2.0μm,得所述氧化铈抛光粉。
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