发明名称 在化学气相沉积反应器中用于配气的系统和方法
摘要 本发明提供在反应器中通过化学气相沉积制造多晶硅或另一材料的系统和方法,其中利用硅竖管来分配气体。硅竖管可经由喷嘴耦合器接附到反应器系统,使得先质气体(precursor gases)可注射到反应室的不同部份。结果,可改良在整个反应室内的气体流动,这能够增加多晶硅的产率、改善多晶硅的质量和降低能量消耗。
申请公布号 CN104357807A 申请公布日期 2015.02.18
申请号 CN201410532387.5 申请日期 2009.03.26
申请人 GTAT公司 发明人 秦文军
分类号 C23C16/455(2006.01)I;C23C16/24(2006.01)I 主分类号 C23C16/455(2006.01)I
代理机构 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人 王芝艳;冯志云
主权项 一种硅反应器系统,包括:反应室,该反应室至少包括固定在该反应室内的底板和可操作地连接到该底板的包壳;至少一条丝,该至少一条丝接附到该底板;电流源,该电流源连接到该至少一条丝的末端用以供应电流到该至少一条丝;气体源,该气体源可操作地连通到该反应室,以使含硅气体流经该反应室;以及竖管,该竖管包括由硅制成的管体且该管体具有可操作地连接到该气体源的入口端及深入且暴露于该反应室内的出口端,用以将该气体流注入该反应室,该出口端作为该管体的终端而不用添加额外结构到该管体,该出口端位于连接到该电流源的该至少一条丝的末端之上的高度,其中,该竖管构造成在该反应室内容置多晶硅的沉积物。
地址 美国新罕布什尔州