| 发明名称 | 补偿光学系统的调整方法和补偿光学系统 | ||
| 摘要 | 本发明通过包括第一步骤～第四步骤的方法，以短时间且高精度地修正波阵面传感器的相位分布与波阵面调制元件的补偿用的相位图案的位置偏移，其中，第一步骤，使奇点生成图案显示在波阵面调制元件(12)中；第二步骤，在传感器(11)中测量调整用波阵面形状，该调整用波阵面形状为由奇点生成图案调制的光像入射到波阵面传感器(11)时的调整用波阵面形状；第三步骤，由传感器(11)中的测量结果，检测调整用波阵面形状中的奇点的位置；第四步骤，基于奇点的位置的位置偏移，调整在波阵面传感器(11)中测量的波阵面形状与在波阵面调制元件(12)中表示的补偿用的图案的位置偏移。 | ||
| 申请公布号 | CN104364700A | 申请公布日期 | 2015.02.18 |
| 申请号 | CN201380029623.5 | 申请日期 | 2013.04.01 |
| 申请人 | 浜松光子学株式会社 | 发明人 | 黄洪欣 |
| 分类号 | G02F1/01(2006.01)I;A61B3/10(2006.01)I;G01M11/02(2006.01)I;G01J9/00(2006.01)I | 主分类号 | G02F1/01(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人 | 杨琦 |
| 主权项 | 一种补偿光学系统的调整方法，其特征在于：该补偿光学系统具有：接受来自光源或观察对象物的光像的波阵面调制元件；和接受来自所述波阵面调制元件的光像并测量该光像的波阵面形状的波阵面传感器，基于由所述波阵面传感器测量的所述波阵面形状，对所述波阵面调制元件中显示的图案进行控制，从而补偿波阵面变形，该补偿光学系统的调整方法包括：第一步骤，使奇点生成图案显示在所述波阵面调制元件中，该奇点生成图案为在规定位置包含奇点的图案；第二步骤，在所述波阵面传感器中测量调整用波阵面形状，该调整用波阵面形状为由所述奇点生成图案调制的光像入射到所述波阵面传感器时的波阵面形状；第三步骤，从所述波阵面传感器中的测量结果检测所述调整用波阵面形状中的所述奇点的位置；和第四步骤，基于所述第三步骤中检测的所述奇点的位置的、相对于所述规定位置的位置偏移，调整在所述波阵面传感器中测量的波阵面形状与在所述波阵面调制元件中显示的补偿用的图案的位置偏移。 | ||
| 地址 | 日本静冈县 | ||