发明名称 |
一种低损耗超高透过率激光减反射薄膜的制备方法 |
摘要 |
本发明涉及激光光学薄膜技术领域,具体涉及一种低损耗超高透过率激光减反射薄膜的制备方法。本发明通过基片化学清洗、离子束溅射薄膜制备、制备误差的修正来实现低损耗超高透过率激光减反射薄膜的制备,为四频差动激光陀螺提供关键的谐振腔内元件。通过实施上述技术方案,通过基片化学清洗、离子束溅射薄膜制备、制备误差的修正实现了低损耗超高透过率激光减反射薄膜的制备,能够满足四频差动激光陀螺谐振腔低损耗控制的要求。 |
申请公布号 |
CN104360422A |
申请公布日期 |
2015.02.18 |
申请号 |
CN201410720810.4 |
申请日期 |
2014.12.02 |
申请人 |
中国航天科工集团第三研究院第八三五八研究所 |
发明人 |
季一勤;刘华松;宗杰;王利栓;姜玉刚;刘丹丹;姜承慧;赵馨 |
分类号 |
G02B1/11(2006.01)I;G01C19/64(2006.01)I |
主分类号 |
G02B1/11(2006.01)I |
代理机构 |
中国兵器工业集团公司专利中心 11011 |
代理人 |
刘东升 |
主权项 |
一种低损耗超高透过率激光减反射薄膜的制备方法,其特征在于,其包括如下步骤:步骤S1:对镀膜基片的化学清洗采取碱溶液清洗、酸溶液清洗、超声波清洗和离心甩干四个子步骤;所述碱性溶液为氨水、双氧水和水配比液;所述酸性溶液为盐酸和水配比液;步骤S2:将减反膜的结构定义为:基底/(αHβL)/空气,包括基底、高折射率膜层H层,低折射率膜层L层,两层的光学厚度分别为αλ<sub>0</sub>/4和βλ<sub>0</sub>/4,λ<sub>0</sub>为中心波长;步骤S3:利用时间控厚离子束溅射沉积技术,分别在同种材质的实验片上制备上述的膜系结构,H层的沉积时间为t<sub>H</sub>,L层的沉积时间为t<sub>L</sub>;步骤S4:利用椭圆偏振仪测量薄膜的反射椭圆偏振参数Ψ(λ)和Δ(λ),设定测量波长范围为λ<sub>min</sub>‑λ<sub>max</sub>,测量步长为Δλ,λmin和λmax的取值包含中心波长λ<sub>0</sub>在内,测试入射角度为45°。对H层和L层的光学厚度进行反演计算,结果分别为α’和β’;步骤S5:根据步骤S4的计算结果对步骤S3的t<sub>H</sub>及t<sub>L</sub>进行修正,修正后的减反膜的最终沉积时间参数T<sub>H</sub>和T<sub>L</sub>分别为T<sub>H</sub>=α/α’×t<sub>H</sub>和T<sub>L</sub>=β/β’×t<sub>L</sub>;步骤S6:薄膜制备完成后采取热处理的方法,在大气氛围中升温到100~200℃,保持8~16h后自然降温到室温。 |
地址 |
300308 天津市东丽区空港经济开发区中环西路58号 |