发明名称 半导体制造装置以及半导体装置的制造方法;SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR APPARATUS
摘要 本发明有效地抑制于半导体制造装置中进行半导体晶片拾取时的半导体晶片残留。本发明包括照相机22、夹头19、夹头驱动部20、顶出机构21、以及控制部30,控制部30包括:记忆体32,储存半导体晶片15的各位置;检测程式36,依序检测一列上的各半导体晶片15的各绝对位置;拾取程式38,依序拾取已检测的各半导体晶片15;预测位置计算储存程式37,基于检测出的一列上的半导体晶片15的各绝对位置,而计算下一列上的半导体晶片15的各预测绝对位置,并其储存于记忆体32;以及视野移动程式39,以储存于记忆体32的各预测绝对位置依序成为照相机22的视野的中心的方式使照相机的视野移动。
申请公布号 TW201507047 申请公布日期 2015.02.16
申请号 TW103118900 申请日期 2014.05.30
申请人 新川股份有限公司 发明人 浦桥亮;绪方佳之
分类号 H01L21/66(2006.01);H01L21/67(2006.01) 主分类号 H01L21/66(2006.01)
代理机构 代理人 叶璟宗郑婷文詹富闵
主权项
地址 日本