发明名称 疏水化处理装置、疏水化处理方法、及疏水化处理用记录媒体
摘要 提供一种可在短时间将基板的表面疏水化的装置、方法及记录媒体。黏着单元(U5),系具备冷却部(40)、光照射部(50)、供气部(60)、升降部(80)及控制部(90)。冷却部(40)的冷却板(41),系与晶圆(W)的背面(Wb)对向。光照射部(50)的光源(51a),系与晶圆(W)之表面(Wa)对向而具有空隙,射出辐射加热用的光。供气部(60)的气体收容体(61,系覆盖光源(51a)的下侧且与晶圆(W)之表面(Wa)对向而具有空隙。在气体收容体(61)的下侧设有复数个气体吐出口(63)。控制部(90),系在控制升降部(80)使晶圆(W)接近冷却板(41)的状态下,控制供气部(60)并送出疏水化处理气体。然后,在控制光照射部(50)使光源(51a)发光且控制升降部(80)使晶圆(W)接近光源的状态下,控制供气部(60)并送出疏水化处理气体。
申请公布号 TW201506992 申请公布日期 2015.02.16
申请号 TW103105858 申请日期 2014.02.21
申请人 东京威力科创股份有限公司 发明人 上田健一
分类号 H01L21/027(2006.01) 主分类号 H01L21/027(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本