发明名称 | 疏水化处理装置、疏水化处理方法、及疏水化处理用记录媒体 | ||
摘要 | 提供一种可在短时间将基板的表面疏水化的装置、方法及记录媒体。黏着单元(U5),系具备冷却部(40)、光照射部(50)、供气部(60)、升降部(80)及控制部(90)。冷却部(40)的冷却板(41),系与晶圆(W)的背面(Wb)对向。光照射部(50)的光源(51a),系与晶圆(W)之表面(Wa)对向而具有空隙,射出辐射加热用的光。供气部(60)的气体收容体(61,系覆盖光源(51a)的下侧且与晶圆(W)之表面(Wa)对向而具有空隙。在气体收容体(61)的下侧设有复数个气体吐出口(63)。控制部(90),系在控制升降部(80)使晶圆(W)接近冷却板(41)的状态下,控制供气部(60)并送出疏水化处理气体。然后,在控制光照射部(50)使光源(51a)发光且控制升降部(80)使晶圆(W)接近光源的状态下,控制供气部(60)并送出疏水化处理气体。 | ||
申请公布号 | TW201506992 | 申请公布日期 | 2015.02.16 |
申请号 | TW103105858 | 申请日期 | 2014.02.21 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 上田健一 |
分类号 | H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | H01L21/027(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 林志刚 | |
主权项 | |||
地址 | 日本 |