发明名称 | 反应腔和MOCVD装置 | ||
摘要 | 本发明揭露了一种反应腔,该反应腔包括托盘装置、支撑骨架和传导单元,其中:该托盘装置,包括多个小托盘和沿该反应腔的高度方向设置的多层大托盘,每层该大托盘在周向上都设置有多个该小托盘;该支撑骨架与该大托盘同轴设置;该传导单元设置在该支撑骨架与该小托盘之间;当该支撑骨架或该托盘装置绕该反应腔的纵向轴线转动时,利用该传导单元带动该小托盘在该大托盘的径向上环绕该小托盘自身的轴线按照预定的速度旋转。本发明还提供一种包括该反应腔的MOCVD装置。该反应腔结构简单,降低了包括该反应腔的MOCVD装置的总体成本。 | ||
申请公布号 | TW201506197 | 申请公布日期 | 2015.02.16 |
申请号 | TW102145332 | 申请日期 | 2013.12.10 |
申请人 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 发明人 | 涂冶 |
分类号 | C23C16/54(2006.01) | 主分类号 | C23C16/54(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 蔡清福蔡驭理 | |
主权项 | |||
地址 | 中国 |