发明名称 具有最佳调整可能性之投影曝光装置;PROJECTION EXPOSURE APPARATUS WITH OPTIMIZED ADJUSTMENT POSSIBILITY
摘要 本发明提供用以成像物场之微影投影装置,包含物镜;一个或复数个操控器,用以操控物镜之一个或复数个光学元件;控制单元,用以调节或控制一个或复数个操控器;决定装置,用以决定物镜之至少一个或复数个像差;记忆体,包含物镜之一个或复数个规格之上限,其包含像差及/或操控器移动之上限,其中当决定其中一个像差之超过其中一个上限时,及/或其中一个操控器移动超过其中一个上限时,最多在30000ms、或10000ms、或5000ms、或1000ms、或200ms、或20ms、或5ms、或1ms内,调节或控制至少一操控器,而可达到不超过上限。
申请公布号 TW201506555 申请公布日期 2015.02.16
申请号 TW103137177 申请日期 2009.09.24
申请人 卡尔蔡司SMT有限公司 发明人 毕特纳 鲍瑞斯;华特 霍杰;洛伊舒 玛斯
分类号 G03F7/20(2006.01) 主分类号 G03F7/20(2006.01)
代理机构 代理人 李宗德
主权项
地址 德国