包括用以消除雾度之水汽及去除残留物的方法;PROCESS COMPRISING WATER VAPOR FOR HAZE ELIMINATION AND RESIDUE REMOVAL

摘要

本发明提供一种处理一基板之方法，该方法包括使用一处理协定自一基板去除材料以提供一经处理基板，后续接着一冲洗步骤。在该冲洗步骤中，引入包括一冲洗流体之至少一个流且致使水汽与该冲洗流体碰撞并使该冲洗流体雾化。致使该经雾化冲洗流体以冲洗方式接触该经处理基板。