| 摘要 |
Die Erfindung betrifft eine Strahlungsquelle, eine Vorrichtung und ein Verfahren zur schnellen Wärmebehandlung einer Beschichtung auf einem Substrat in einer Vakuumkammer einer Substratbehandlungsanlage, in der die Beschichtung von einer Strahlungsquelle bestrahlt und durch Bestrahlung schnell erwärmt wird. Um eine kurzzeitige Wärmebehandlung zu erreichen, die großflächig, oberflächennah und unabhängig vom Absorptionsgrad der Beschichtung wirkt, wird erfindungsgemäß eine Elektronenstrahlungsquelle verwendet, die mindestens eine Blitzlampe und eine Elektronenemissionsschicht umfasst. Dabei wird die Beschichtung mit Elektronen bestrahlt, die mittels der Blitzlampe von der Elektronenemissionsschicht emittiert werden. |
