| 发明名称 | 基板、针对基板的曝光方法、光取向处理方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供能对所有曝光对象区域高精度地照射光能量的基板和曝光方法。使用具有多个曝光单元(52)的曝光装置(5)，上述曝光单元(52)具备光源(521)和形成有能使从光源(521)发出的光能量透过的透光图案(5221)的掩模(522)，一边使基板(1)与曝光单元(52)相对地移动一边通过形成于掩模(522)的透光图案(5221)对基板(1)照射光能量，并且在掩模(522)跨于某种尺寸的显示区域(11a)和其它尺寸的显示区域(11b)的曝光单元(52)中，将形成于基板(1)的对准图案(12)用作控制掩模(522)的定位的基准，对某种尺寸的显示区域(11a)和其它尺寸的显示区域(11b)两者照射光能量。 | ||
| 申请公布号 | CN102725680B | 申请公布日期 | 2015.02.11 |
| 申请号 | CN201180006810.2 | 申请日期 | 2011.01.19 |
| 申请人 | 夏普株式会社 | 发明人 | 平子贵浩 |
| 分类号 | G02F1/1337(2006.01)I;G02F1/13(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I;G09F9/00(2006.01)I;G09F9/30(2006.01)I | 主分类号 | G02F1/1337(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市隆安律师事务所 11323 | 代理人 | 权鲜枝 |
| 主权项 | 一种基板，形成有：某种尺寸的多个曝光对象区域；以及与上述某种尺寸不同的其它尺寸的多个曝光对象区域，上述基板的特征在于，在形成有上述某种尺寸的多个曝光对象区域的范围与形成有上述其它尺寸的多个曝光对象区域的范围之间，形成有在对上述曝光对象区域曝光时成为控制光能量的照射位置的基准的对准图案。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||